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紫外光清洗机介绍


紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信息产业的发展而提出来的。七十年代中期美国军事电子技术和器件实验室应用紫外光照射清洗石英晶片取得满意的效果。但是,美国在较长的时间里紫外光表面清洗技术主要在军事领域中进行研究性应用。直到九十年代初,日本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电子产品的工业生产过程,并开始向我国个别外资LCD企业在要求技术保密的情况下提供UV光清洗机。随后,日本在发展紫外光表面清洗技术的同时,紫外光表面改质技术也得到了发展。在二十世纪末,日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术由信息产业逐步扩展到金属、塑料、橡胶等工业生产过程。二十世纪九十年代后期,我国的信息技术和产业以惊人的速度飞速发展,特别是平板显示技术的高速发展,LCD显示屏由TN级向STN和TFT不断提升,新型的OLED显示产品也开始进入市场。由此,对制备工艺过程表面质量要求越来越严格,紫外光表面清洗技术的优越性已经得到广泛认可,UV光清洗机的需求量正在不断增长。 (公司及创始人介绍)北京航天宏达光电技术有限公司是注册于北京中关村海淀高科技园区的高新技术企业。公司创建于1994年,初期主要是以军品的加工、技术服务为主。

 

2001年开始,公司将目标
锁定在特种光源的开发和净化领域的应用上,接连研制出真空紫外光谱仪、光清洗机、特种光源电源、系列空气净化器和水处理产品特种光源已经被国内外著名企业采用、真空紫外光谱仪填补了该项产品国内空白,真空紫外光清洗机获得国家发明专利
2003年荣获海淀园创新基金。

北京航天宏达光电技术有限公司是集光清洗技术和光清洗机的研究、设计、生产、销售为一体的高新技术企业。公司依靠自己的力量,成功的开发了具有世界先进水平的工业化
UV光清洗机系列产品,大功率低压紫外汞灯不仅在国内领先,而且与国际上同类产品水平相当,UV光清洗机的清洗效果达到国外先进水平。经清华大学化学系分析中心俄歇电子能谱仪检测,对ITO玻璃基片进行光清洗后,达到了原子清洁度。
光清洗机获得国家知识产权局颁发的发明专利证书(专利号:ZL03 1 49541.9),授权日为公司于2006年12月13日。公司目前是专业从事光清洗机研制、生产、销售并获得UV光清洗机发明专利授权的单位。也是世界上少有的可以将整机所有核心部件及控制系统均为自主研发生产的企业!

原理介绍
光清洗的基本原理与传统的清洗技术如化学法、物理法(例超声波)不同,与新近发展的等离子体清洗、激光清洗等也有较大不同。主要是应用光化学原理与技术,技术关键在于特种大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理为利用光子能量将有机物的高分子链、大分子链,断裂成小分子、原子、自由基等;及将空气中的氧分子变成臭氧O3O3再经光子的作用产生激态氧原子O*O*将断裂后的有机物质强氧化变成CO, CO2,H2O等挥发,随排气排出,不留任何痕迹,属干式法,无接触型;常温、常气压下无损伤,不使用任何化学药品,环保无二次污染;对物体表面的最难清洗的油脂及有机污染物有特殊清洗效果。

光清洗工作原理是利用特定波长的紫外光(UV)及真空紫外(VUV)双波段的高能光子切断有机污染物(如油质、指纹等)的高分子链,在VUV照射下产生臭O3,释放出活性氧原子;具有很强的氧化性,对断裂后的高分子进行氧化作用生成co、CO2、H2O气化,随排气系统排出,达到干法,无残留物,高洁净度的特点。本项目特点是:

1. 高强度UV/VUV特种紫外光源,釆用对VUV高透射率,低羟基石英管,釆用蛇行管行以増加正柱区。釆用特种气体及填充物对比及温度可控冷点,采用高管壁负荷设计及冷点可控技术以确保高强度、恒温度特性;

2.研发用于VUV (包括UV)的真空紫外光谱仪,保证光源特性及材料特性的测试要求,这是研发光源的重要技术保障;

3.系统使用温度、压力、。

3浓度,紫外照度等各种传感器及可控阀门,控温器•传动系统并通过微处理器进行综合最优控制使光化反应气氛效果达最佳状态;

4.系统釆用独立自净化闭环系统。通过微处理器控制系统各点压力,以确保内部Q不外泄:外部尘埃不进入,实现内净化室洁净度高于外部环境(指车间或设备所在工作室)•彻底解决在线式开口系统的内部等效封闭工况;5.釆用先进的Q尾气处理技术,UV照射加辅助加热法的光热复合处理技术。并留出Q尾气综合利用的接口。


紫外光清洗机介绍

紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信息产业的发展而提出来的。七十年代中期美国军事电子技术和器件实验室应用紫外光照射清洗石英晶片取得满意的效果。但是,美国在较长的时间里紫外光表面清洗技术主要在军事领域中进行研究性应用。直到九十年代初,日本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电子产品的工业生产过程,并开始向我国个别外资LCD企业在要求技术保密的情况下提供UV光清洗机。随后,日本在发展紫外光表面清洗技术的同时,紫外光表面改质技术也得到了发展。在二十世纪末,日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术由信息产业逐步扩展到金属、塑料、橡胶等工业生产过程。二十世纪九十年代后期,我国的信息技术和产业以惊人的速度飞速发展,特别是平板显示技术的高速发展,LCD显示屏由TN级向STN和TFT不断提升,新型的OLED显示产品也开始进入市场。由此,对制备工艺过程表面质量要求越来越严格,紫外光表面清洗技术的优越性已经得到广泛认可,UV光清洗机的需求量正在不断增长。 (公司及创始人介绍)北京航天宏达光电技术有限公司是注册于北京中关村海淀高科技园区的高新技术企业。公司创建于1994年,初期主要是以军品的加工、技术服务为主。
2001年开始,公司将目标锁定在特种光源的开发和净化领域的应用上,接连研制出真空紫外光谱仪、光清洗机、特种光源电源、系列空气净化器和水处理产品特种光源已经被国内外著名企业采用、真空紫外光谱仪填补了该项产品国内空白,真空紫外光清洗机获得国家发明专利2003年荣获海淀园创新基金。

北京航天宏达光电技术有限公司是集光清洗技术和光清洗机的研究、设计、生产、销售为一体的高新技术企业。公司依靠自己的力量,成功的开发了具有世界先进水平的工业化UV光清洗机系列产品,大功率低压紫外汞灯不仅在国内领先,而且与国际上同类产品水平相当,UV光清洗机的清洗效果达到国外先进水平。经清华大学化学系分析中心俄歇电子能谱仪检测,对ITO玻璃基片进行光清洗后,达到了原子清洁度。 光清洗机获得国家知识产权局颁发的发明专利证书(专利号:ZL03 1 49541.9),授权日为公司于2006年12月13日。公司目前是专业从事光清洗机研制、生产、销售并获得UV光清洗机发明专利授权的单位。也是世界上少有的可以将整机所有核心部件及控制系统均为自主研发生产的企业!

原理介绍 光清洗的基本原理与传统的清洗技术如化学法、物理法(例超声波)不同,与新近发展的等离子体清洗、激光清洗等也有较大不同。主要是应用光化学原理与技术,技术关键在于特种大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理为利用光子能量将有机物的高分子链、大分子链,断裂成小分子、原子、自由基等;及将空气中的氧分子变成臭氧O3O3再经光子的作用产生激态氧原子O*O*将断裂后的有机物质强氧化变成CO, CO2,H2O等挥发,随排气排出,不留任何痕迹,属干式法,无接触型;常温、常气压下无损伤,不使用任何化学药品,环保无二次污染;对物体表面的最难清洗的油脂及有机污染物有特殊清洗效果。

光清洗工作原理是利用特定波长的紫外光(UV)及真空紫外(VUV)双波段的高能光子切断有机污染物(如油质、指纹等)的高分子链,在VUV照射下产生臭O3,释放出活性氧原子;具有很强的氧化性,对断裂后的高分子进行氧化作用生成co、CO2、H2O气化,随排气系统排出,达到干法,无残留物,高洁净度的特点。本项目特点是:

1. 高强度UV/VUV特种紫外光源,釆用对VUV高透射率,低羟基石英管,釆用蛇行管行以増加正柱区。釆用特种气体及填充物对比及温度可控冷点,采用高管壁负荷设计及冷点可控技术以确保高强度、恒温度特性;

2.研发用于VUV (包括UV)的真空紫外光谱仪,保证光源特性及材料特性的测试要求,这是研发光源的重要技术保障;

3.系统使用温度、压力、。

3浓度,紫外照度等各种传感器及可控阀门,控温器•传动系统并通过微处理器进行综合最优控制使光化反应气氛效果达最佳状态;

4.系统釆用独立自净化闭环系统。通过微处理器控制系统各点压力,以确保内部Q不外泄:外部尘埃不进入,实现内净化室洁净度高于外部环境(指车间或设备所在工作室)•彻底解决在线式开口系统的内部等效封闭工况;
5.釆用先进的Q尾气处理技术,UV照射加辅助加热法的光热复合处理技术。并留出Q尾气综合利用的接口。

1. 高强度UV/VUV特种紫外光源,釆用对VUV高透射率,低羟基石英管,釆用蛇行管行以増加正柱区。釆用特种气体及填充物对比及温度可控冷点,采用高管壁负荷设计及冷点可控技术以确保高强度、恒温度特性;

2.研发用于VUV (包括UV)的真空紫外光谱仪,保证光源特性及材料特性的测试要求,这是研发光源的重要技术保障;

3.系统使用温度、压力、。

3浓度,紫外照度等各种传感器及可控阀门,控温器•传动系统并通过微处理器进行综合最优控制使光化反应气氛效果达最佳状态;

4.系统釆用独立自净化闭环系统。通过微处理器控制系统各点压力,以确保内部Q不外泄:外部尘埃不进入,实现内净化室洁净度高于外部环境(指车间或设备所在工作室)•彻底解决在线式开口系统的内部等效封闭工况;5.釆用先进的Q尾气处理技术,UV照射加辅助加热法的光热复合处理技术。并留出Q尾气综合利用的接口。